• コンビナトリアルアークプラズマ蒸着装置　

  

  特長 ○ 新規金属系材料の探索効率を1000倍と飛躍的に高めます。 ○ アークプラズマガンを採用したパルス蒸着により、1回の成膜プロセス　で組成傾斜膜を作製できます。 ○ MEMSプロセスにより1000個の薄膜ライブラリを作成できます。 ○ 薄膜ライブラリをSiC傾斜温度加熱装置で加熱し、結晶化温度等の 　 超高速評価が可能です。 ○ 単一アークプラズマガンと合金カソードの組合せでも組成傾斜膜を容易　に作製できます。 ■本装置は東京工業大学精密工学研究所 　秦誠一准教授の技術指導を受け製作しています。 　秦研究室の研究内容や研究成果もご覧頂けます。

  最終更新日：2012/01/26

• レーザーアブレーション装置　PLD-2000

  

  ○ ＳｉＣヒータを採用し1000℃の高温加熱を実現 ○ 10Pa～超高真空まで広範囲な圧力範囲で成膜可能 ○ メンテナンスの容易なYAGレーザーを採用 ○ スパッタ、蒸着およびMBE装置へも拡張可能 ○ コンパクトながら高性能で低価格

  最終更新日：2012/01/26

• ＬＥＤ発光特性評価装置

  

  ○ LEDや光デバイスの発光強度、分光特性および照度等を簡単に測定でき　 ます。 ○ 積分球プローバーで微小なデバイスからφ５インチウェハまでの試料 測定に対応できます。 ○ パルス発光および連続発光の測定が可能です。 ○ 試料台の任意の位置にプロ―ビングし電圧印加できます。 ○ 専用ソフトで印加電流-発光輝度グラフの測定やデータファイリングが簡　 単にできます。

  最終更新日：2012/01/26

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