300名以上が受講したWebセミナーを録画配信！最新動向、金属低減プロセスの具体例などをご紹介
昨年10月に実施し、300名以上がご参加いただいた半導体業界における
金属低減に関するWebセミナーをオンデマンドにて公開しています。
昨今の半導体業界では、金属管理の要求レベルが高まっており、
その要求は今まで要求がなかった原材料にいたるまで裾野が広がってきております。
昨年10月に最新の金属低減要求に関する動向と、
実際に金属低減プロセスをどのような段階で対策されているか
具体例を交えてお話するセミナーを開催し、ご好評をいただきました。
この度録画配信(オンデマンド配信)を行いますので、下記【関連リンク】より、是非ご参加くださいませ。
＜セミナー概要＞
【監修】
スリーエムジャパン株式会社 フィルター製品技術部
【内容】
1. 最新の金属低減要求に関する動向について
2. 金属低減の対策方法について
3. 金属イオンの測定についてのTips
4. 3Mの金属イオン除去フィルターについて
※セミナーは日本語となります。ご視聴は無料です。
【セミナーでもご紹介する『3M MIPシリーズ』について】
半導体製造プロセスなどで使用する薬液中の金属イオンを
50ppt以下レベルまで低減可能な金属イオン除去フィルターです。
〈 個人情報の取り扱い 〉
スリーエム ジャパン（株）は下記のリンク内の個人情報取り扱い方針および同社のプライバシーポリシーに
基づき個人情報を取り扱います。
https://www.3mcompany.jp/3M/ja_JP/company-jp/handle-personal-information/
3Mは、皆様のプライバシーを尊重します。3Mおよび3Mの委託先である第三者は、
当社の個人情報取り扱い方針およびプライバシーポリシーに従い、皆様から提供された情報を使用して
プロモーションや製品情報・サービスの提供を含むコミュニケーションを行う場合があります。
これらの情報は、米国内のサーバーに保存される可能性があることをご了承ください。
この個人情報の使用に同意されない場合は、本システムをご利用にならないでください。
半導体製造プロセスなどで使用する薬液中の金属イオンを
50ppt以下レベルまで低減可能な金属イオン除去フィルターです。
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関連ダウンロード
Webセミナー 半導体業界における金属低減要求の動向および対策
上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
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ソルベンタム合同会社 フィルター製品事業部
