処理能力 最大6インチ丸基板 25枚(専用カセット収納式)
プロセス 現像液 2系統 (ノズル交換可能)
リンス 1系統 エアーナイフ 1系統
使用薬液類 アルカリ系現像液 脱イオン洗浄水
搬送ロボット タツモ社製 センターリングステージにより基板位置精度出し
レシピ 10ステップx50パターン登録可能
処理時間設定 0.1秒単位
基板回転数 ACサーボモーター制御 0~3000rpm 精度±2rpm以内
装置サイズ W1120×D920×H1950mm以内 500Kg以下
制御システム 8インチタッチパネル操作
吸着テーブル 白色テフロン製、真空孔吸着型
キャニスター 容量18Lで装置本体とは別置き、残液量はロードセルで検知
現像液制御温度 20~30℃±3℃
ユーティリティ 三相200V/30A 漏電ブレーカー 1系統
真空ポンプ内蔵
エアー 0.5MPa
窒素 0.3MPa
排気 排気口φ75mm 2系統(電装排気、カップ排気)
現像液廃液 ポリタンク回収又は工場廃液に接続
プロセス 現像液 2系統 (ノズル交換可能)
リンス 1系統 エアーナイフ 1系統
使用薬液類 アルカリ系現像液 脱イオン洗浄水
搬送ロボット タツモ社製 センターリングステージにより基板位置精度出し
レシピ 10ステップx50パターン登録可能
処理時間設定 0.1秒単位
基板回転数 ACサーボモーター制御 0~3000rpm 精度±2rpm以内
装置サイズ W1120×D920×H1950mm以内 500Kg以下
制御システム 8インチタッチパネル操作
吸着テーブル 白色テフロン製、真空孔吸着型
キャニスター 容量18Lで装置本体とは別置き、残液量はロードセルで検知
現像液制御温度 20~30℃±3℃
ユーティリティ 三相200V/30A 漏電ブレーカー 1系統
真空ポンプ内蔵
エアー 0.5MPa
窒素 0.3MPa
排気 排気口φ75mm 2系統(電装排気、カップ排気)
現像液廃液 ポリタンク回収又は工場廃液に接続