処理テーブル
有効処理エリア:W175mmxD185mmxH約120mm
プロセスガス :空気
装置サイズ :W850mmxD476mmxH530mm
装置重量 :約52Kg
用力 :AC100V 50/60Hz 10A
温度変化 :処理中のチャンバー内温度は処理時間10分で5℃以内の上昇
それ以上の温度上昇無し
:真空・大気の断熱変化による温度変化は室温±約3℃
有効処理エリア:W175mmxD185mmxH約120mm
プロセスガス :空気
装置サイズ :W850mmxD476mmxH530mm
装置重量 :約52Kg
用力 :AC100V 50/60Hz 10A
温度変化 :処理中のチャンバー内温度は処理時間10分で5℃以内の上昇
それ以上の温度上昇無し
:真空・大気の断熱変化による温度変化は室温±約3℃