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UV-LED光源の露光装置(マスクアライナー)の販売を開始!UV-LED光源の露光装置(マスクアライナー)の販売を開始しました。 光源波長:365nm(i線) 照度:0~80mW/cm2 照射径:φ160mm ウェハサイズ:MAX2~6インチ …2020-01-28 00:00:00.0製品ニュース
株式会社エイ・エス・エイ・ピイについて
半導体フォトリソプロセス関連装置、特に特殊塗布技術を提供いたします。高圧ジェットリフトオフ装置も取り扱っております。
フォトレジストの塗布・露光・現像装置をメインとし、両面露光装置等、フォトリソグラフィープロセス全般および関連プロセス装置の設計・製造・販売を行っております。
特に、凹凸やV溝のある基板または、角基板や不定形基板への均一性の高い塗布技術を有しております。さらに、高圧ジェットNMPによるバリ、メタルの再付着の発生の無い剥離・リフトオフ装置を開発し、販売しております。
その他、ポリイミド・PBF・OCD・WAX等各種塗布装置、高温ベーキング装置、スピンドライヤー装置等取り扱っております。
お客様の仕様・予算により装置をカスタマイズしてお作りしております。
また、各種ウェハ、基板等の販売も行っております。
特に、凹凸やV溝のある基板または、角基板や不定形基板への均一性の高い塗布技術を有しております。さらに、高圧ジェットNMPによるバリ、メタルの再付着の発生の無い剥離・リフトオフ装置を開発し、販売しております。
その他、ポリイミド・PBF・OCD・WAX等各種塗布装置、高温ベーキング装置、スピンドライヤー装置等取り扱っております。
お客様の仕様・予算により装置をカスタマイズしてお作りしております。
また、各種ウェハ、基板等の販売も行っております。