最終更新日:
2023-07-12 11:43:04.0
無加熱成膜でも密着性が良く、充填密度の高い薄膜が形成できます
日本電子株式会社 BS-80020CPPS プラズマソースは、プラズマによる基板や基材の温度上昇を抑え、基板/基材へのイオン照射エネルギーを高めた低温プロセス用のプラズマソースです。
プラスチックや有機フィルムへの成膜用途（プラズマアシスト蒸着）や表面改質用途に適しています。
〇特長
・無加熱成膜でも密着性が良い
・填密度の高い薄膜が形成
・既設の真空チャンバーへ後付けも可能
※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
基本情報
【仕様】
最大放電出力：3.2kW (160V, 20A)
放電ガス(Ar)：8～20mL/min
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| 価格情報 | お問い合わせください。 |
|---|---|
| 価格帯 | 1000万円 ~ 5000万円 |
| 納期 |
お問い合わせください
※ 配送地域によって変動がございますので、お気軽にお問い合わせください。 |
| 型番・ブランド名 | BS-80020CPPS |
| 用途／実績例 | 【用途】 プラスチックや有機フィルムへの成膜プラズマアシスト蒸着）や表面改質 |
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