ビーエルテック株式会社

「半導体素材、タンタル、ニオブ、鉄鋼等における、連続流れ分析装置(STAA-3)を用いた低濃度シリカの分離分析の検討」

最終更新日: 2021-07-20 19:37:39.0

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

タンタル、ニオブ、鉄鋼、半導体素材等における、連続流れ分析装置(STAA-3)を用いた低濃度シリカの分離分析の検討
シリカはICP 発光、ICP-MS 等で測定を行うにあたり、石英製プラズマトーチ等からのシリカの汚染や質量干渉のため、低濃度付近を正確に測定することができない。また、分析におけるベースラインのバックグラウンドが各サンプルの種類によって異なるため、マトリクスマッチングや標準添加法が必須となる。また、鋼中等に含まれるシリカは重量法で行う必要があるが、煩雑な分析手法が必要となる。
そのため、シリカを気体として分離、吸収液に捕集して測定を行う分析装置を開発し、タンタル、ニオブ、鉄鋼等に含まれるシリカの高感度でかつ、簡易、安全な分析方法の検討を行った。

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