最終更新日:
2020-03-27 14:24:58.0
ビューラー・ライボルトオプティクスの光学用スパッター装置
HELIOS（ヘリオス）は、高品質な光学膜製作用に開発されたスパッター装置です。特に低吸収・低分散が求められる多層フィルターの製造に適しています。HELIOSシリーズは400と800（基板サイズ）の2タイプをご用意しています。
基本情報
【特徴】
・PARMS (Plasma Assisted Reactive Magnetron Sputtering)プロセス技術を用い、アーキングのない高レートで安定した製膜を実現。
・MF（中周波）電源を用い金属酸化膜、窒化膜を製膜。
・膜厚制御はダイレクトモニターリング方式による高精度な制御が可能。
・200層以上および20ミクロン厚の多層膜厚のフィルターが作成可能。
・Co-Sputtering技術により中間屈折率のチューニングが可能。
その他詳細はお気軽にお問合せください。
| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 納期 | お問い合わせください |
| 型番・ブランド名 | HELIOS |
| 用途／実績例 |
お問い合わせ
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ビューラー株式会社
