株式会社サーマプレシジョン

MRS投影露光装置

最終更新日: 2023-01-06 15:12:40.0

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

関連情報

ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS
ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS 製品画像
・装置:露光機、投影露光機、ステッパー
・用途:半導体後工程用、RFフィルター用、パワー半導体用、電子部品用、パッケージ用、研究用
・対応基板:ウエハ(特殊ウエハ含む)各種サイズ、ガラス、有機基板等
・レンズ特徴:解像度 1.5um 以上、等倍、広画角(4~8インチ)
・本体:~12インチ、研究用
・光源は全て LED が標準

その他、カスタム設計、レンズ設計・製造・販売、LED光源の販売

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