・装置:露光機、投影露光機、ステッパー
・用途:半導体後工程用、RFフィルター用、パワー半導体用、電子部品用、パッケージ用、研究用
・対応基板:ウエハ(特殊ウエハ含む)各種サイズ、ガラス、有機基板等
・レンズ特徴:解像度 1.5um 以上、等倍、広画角(4~8インチ)
・本体:~12インチ、研究用
・光源は全て LED が標準
その他、カスタム設計、レンズ設計・製造・販売、LED光源の販売
・用途:半導体後工程用、RFフィルター用、パワー半導体用、電子部品用、パッケージ用、研究用
・対応基板:ウエハ(特殊ウエハ含む)各種サイズ、ガラス、有機基板等
・レンズ特徴:解像度 1.5um 以上、等倍、広画角(4~8インチ)
・本体:~12インチ、研究用
・光源は全て LED が標準
その他、カスタム設計、レンズ設計・製造・販売、LED光源の販売