中国精油株式会社

『低分子シロキサン除去シリコーン』※新開発

最終更新日: 2024-03-11 15:23:10.0
ポストキュア(二次加硫)工程が不要に。電気接点障害やブリードを大幅低減

当社はこのたび、長年培ってきた精製技術を活用し、
低分子シロキサンを含まないシリコーンの製造に成功しました。

シリコーンゴム成形後の、低分子シロキサン除去工程(ポストキュア工程)が不要。
生産工程の短縮やオイルブリードの低減に貢献します。

【特長】
■付加架橋タイプはSi-H、Si-Viの両方の低分子シロキサンを予め除去
■ポストキュア工程を省略でき、生産工程の短縮に貢献
■密閉性が高く、高温になるECU内での低分子シロキサンガスの発生を抑制
■シリコーンゴム使用中のオイルブリードも抑制

※詳しくはPDF資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

基本情報

【新規シリコーン製品 ラインアップ(抜粋)】
メチルハイドロジェンポリシロキサン:CHUSIL60MH(揮発分0.1%以下)
両末端ビニルジメチルシリコーン:CHUSIL200VT(揮発分0.1%以下)
両末端ビニルジメチルシリコーン:CHUSIL100VTS(揮発分0.1%以下、低分子シロキサン100ppm以下)

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