中国精油株式会社

『低分子シロキサン除去シリコーン』※新開発

最終更新日: 2024-03-11 15:23:10.0
ポストキュア(二次加硫)工程が不要に。電気接点障害やブリードを大幅低減

当社はこのたび、長年培ってきた精製技術を活用し、
低分子シロキサンを含まないシリコーンの製造に成功しました。

シリコーンゴム成形後の、低分子シロキサン除去工程(ポストキュア工程)が不要。
生産工程の短縮やオイルブリードの低減に貢献します。

【特長】
■付加架橋タイプはSi-H、Si-Viの両方の低分子シロキサンを予め除去
■ポストキュア工程を省略でき、生産工程の短縮に貢献
■密閉性が高く、高温になるECU内での低分子シロキサンガスの発生を抑制
■シリコーンゴム使用中のオイルブリードも抑制

※詳しくはPDF資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

基本情報

【新規シリコーン製品 ラインアップ(抜粋)】
メチルハイドロジェンポリシロキサン:CHUSIL60MH(揮発分0.1%以下)
両末端ビニルジメチルシリコーン:CHUSIL200VT(揮発分0.1%以下)
両末端ビニルジメチルシリコーン:CHUSIL100VTS(揮発分0.1%以下、低分子シロキサン100ppm以下)

※詳しくはPDF資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
用途/実績例 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

お問い合わせ

下記のフォームにお問い合わせ内容をご記入ください。
※お問い合わせには会員登録が必要です。

至急度  必須
ご要望  必須
目的  必須
添付資料
お問い合わせ内容 
【ご利用上の注意】
お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。
はじめてイプロスをご利用の方 はじめてイプロスをご利用の方 すでに会員の方はこちら
イプロス会員(無料)になると、情報掲載の企業に直接お問い合わせすることができます。
メールアドレス

※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。

中国精油株式会社

製品・サービス一覧(51件)を見る