コヒレント・ジャパン株式会社

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エキシマUVシステム

最終更新日: 2024-12-02 16:40:55.0
独自の高エネルギーUVエキシマレーザ!高性能モバイルディスプレイと同じ実現技術を採用

50年にわたるUVレーザと光学システムの経験から、当社はエキシマレーザ
ビームの管理、形成、集束に関する課題に精通しています。

長寿命のレーザ、オプティクス、構造によりリスクを回避し、24時間365日
動作可能。高性能モバイルディスプレイと同じ実現技術を採用しています。

また、垂直統合を活用し、厳しい基準に合わせてシステム全体の設計、
製造、組み立てを行っています。

【特長】
■垂直統合
■実績のある産業用ツール
■193nm、248nm、308nmシステムと、カスタム157または
 351nmオプションから選択可能
■独自の高エネルギーUVエキシマレーザを、LTPS、LLO、LIFT、PLD、
 LA-ICP-MSなどに対して構成された完全な光学システムで最大限に活用

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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基本情報

【ラインアップ】
■UVtransfer(3つの要素を兼ね備えている価値-1つのシステムで3つのプロセスすべてに対応)
■LineBeam(長いラインビーム-最大1500mm)
■UVblade(高い均一性-1.8%)
■エキシマビーム伝送オプティクス(ビームの均一化-流れの変動が5%以下)
■VarioLas(高エネルギー密度-最大7.5〔J/cm2〕)
■GeoLasHD(高い光学分解能-1µm)

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