株式会社電子技研

WETプロセス装置 LCDカセット洗浄装置

最終更新日: 2017-04-19 17:27:59.0

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圧縮エアーとスピン回転の併用により高レベル乾燥を実現しました。

WETプロセス装置 LCDカセット洗浄装置は、LCD等のカセットを高圧温純水スプレーにて洗浄後、HOTエアーブロー及びトルネードスピン回転により乾燥を行います。
株式会社電子技研の洗浄等のスピンをはじめとするWET装置技術は、ウエハ・ガラス基板等をはじめ、プリント基板、金属基板等の洗浄、その他多用途で半導体・LCD業界、医療業界、食品業界他、幅広い業界のニーズに対応できます。

【特徴】
○シンプルな機構設計で省スペース、省エネルギー化を実現
○カセット内側の専用ノズルによりコーム洗浄を行う
○圧縮エアーとスピン回転の併用により高レベル乾燥を実現
○HOT-FFU搭載によるチャンバー加温システムを採用

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

【特徴】
○LCD等のカセットを高圧温純水スプレーにて洗浄後、
 HOTエアーブロー及びトルネードスピン回転により乾燥を行なう

【WET関連装置】
○マルチスピンプロセッサー
○枚葉スピンプロセッサー
○枚葉基板洗浄装置
○LCDマスク洗浄装置
○LCDカセット洗浄装置
○LCD枚葉エッチング装置

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