日本ドナルドソン株式会社

ケミカルフィルタシステム「リソガード12」

最終更新日: 2024-06-07 10:22:30.0
ArF液浸露光など、ハイエンド半導体露光装置向けケミカルフィルタシステム

「リソガード12」は、ArF液浸露光を始めとするハイエンド半導体露光装置向けに開発された、酸性・塩基性・凝縮性有機ガス除去用HEPAフィルタ付高効率ケミカルフィルタシステムです。
キャビネット内にLPSフィルタまたはBSMmaxフィルタ12枚とHEPAフィルタ6枚を搭載しています。
低濃度環境下においても高い汚染物質除去性能を発揮するため、調清浄環境が要求されるプロセスの実現や光学系部品の汚染による性能低下の防止にも最適です。

【特長】
○長寿命(LPSまたはBSMmaxフィルタ搭載)
○省スペース
○低コスト(Refillプログラムによるフィルターの再生利用)

その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問合せ下さい。

基本情報

【仕様】
○システム品番:KAX007890
○ケミカルフィルタ品番:P512612
○設定風量:2,600m3/hr
○寸法:幅850mm×高さ1,850mm×奥行1,200mm
○概算重量(フィルタ込):600kg
○操作用電源:不要
○気密用圧縮空気:不要

その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問合せ下さい。

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
型番・ブランド名 リソガード-12/LITHOGUARD-12
用途/実績例 【用途】
○半導体用露光装置や超清浄環境が必要とされる製造・実験設備等への空気供給ラインに設置してご使用いただけます。

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