株式会社イー・スクエア

常圧Plasma表面処理装置 『Precise II』

最終更新日: 2015-07-24 13:12:15.0

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

半導体関連の大気汚染等に関する空気清浄装置の開発・製造・販売などを行っているの製品カタログです。
【掲載内容 ※詳しくはカタログをご覧ください。】
株式会社イー・スクエアは、1999年08月 IC製造等で排出されるPFC(パーフロロカーボン)を除去するプラズマ除去の応用で地球環境への社会貢献を目的として設立されました。
2001年10月、常圧プラズマを利用した表面改質処理装置の開発に着手。
常圧プラズマの発生実験中にトライしてみたプラズマによるレジストの剥離実験が、LCD製造工程に多用される表面改質装置へと繋がり、2002年08月 表面処理装置が完成、さらに、フレキシブル基板(FPC)業界への進出を決定する契機にもなりました。
イー・スクエアは、超小型・軽量で高い信頼性を有した 常圧Plasma表面処理装置 『Precise II』の取扱いを行っています。

関連情報

大気圧プラズマ装置 
大気圧プラズマ装置  製品画像

【大気圧プラズマ表面改質の優位点】
■目的とする表面エネルギー(接触角)をコントロールできる
■活性種ガス(OHラジカル等)の侵入部分の細部まで処理ができる
■種々のガスを添加することで、撥水・還元処理やエッチング、CVD装置プラズマソースとして簡便に使用できる
■装置がコンパクト(省スペース)
■親水処理では排ガス等の後処理も不要
■処理表面への物理的ダメージがない(ダウンストリーム型)
■処理後の帯電がない(ダウンストリーム型)
■半導体素子上の処理でも素子性能変化がない
■処理中表面へのUVダメージがない
■Particle発生がない(ダウンストリーム型)
■残渣物の出来ない常温表面乾燥
■添加ガス種の変更により、マトリックス材に見合う共有結合分子の付与
■分子結合を用いた各種フィルムへのダイレクト接着技術、

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