従来比50％の性能UP！低N2消費（約45％削減）の大気圧プラズマ装置
大気圧プラズマ装置 「Preciseシリーズ」は、窒素ガスをベースとし、誘電体バリア放電を利用しワーク自体を電磁界エリアから隔離し、リアクター内で励起されたラジカル等のみを使用した装置です。
これによりワークへのダメージを与えない状態で連続処理が可能になりました。
また、ワークが帯電した状態でも除電され、処理後の気中のパーティクル付着もありません。
【特徴】
○低温処理
○ダメージフリー
○ESDフリー処理手前でのイオナイザー装置が不要
○2年間メンテナンスフリー
○小型軽量（他社比較：約体積比率1/2以下、約重量比率1/3以下）
○半永久的長期寿命の誘電体電極
○パーティクルフリー
○幅広ワークへの均一処理
詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【大気圧プラズマ装置の優位点】
■ドライ処理のため乾燥工程不要
■接触角（表面エネルギー）をコントロールできる
■活性ガス(各種ラジカル）処理なので、不織布や繊維束内部まで処理が可能。
■種々のガスを添加することで、撥水・還元処理やエッチング、CVD装置プラズマソースとして簡便に使用できる
■パーティクルフリー
■排ガス処理も不要
■処理表面への物理的、電気的、熱的ダメージがない(ダウンストリーム型)
■処理後の帯電がない(ダウンストリーム型)
■半導体素子上の処理でも素子特性変化がない
■有機表面、内部へのUVダメージがない
■Particle発生がない(ダウンストリーム型)
■残渣物が出来ない表面乾燥ができる
■高密度ラジカルの生成により、窒素ガス消費量の４５％削減（従来比）
■添加ガス種の変更により、マトリックス材に見合う官能基かアミン基の選択が可能
■各種材質表面へのダイレクト接着技術
■還元処理
■ドライ処理のため乾燥工程不要
■接触角（表面エネルギー）をコントロールできる
■活性ガス(各種ラジカル）処理なので、不織布や繊維束内部まで処理が可能。
■種々のガスを添加することで、撥水・還元処理やエッチング、CVD装置プラズマソースとして簡便に使用できる
■パーティクルフリー
■排ガス処理も不要
■処理表面への物理的、電気的、熱的ダメージがない(ダウンストリーム型)
■処理後の帯電がない(ダウンストリーム型)
■半導体素子上の処理でも素子特性変化がない
■有機表面、内部へのUVダメージがない
■Particle発生がない(ダウンストリーム型)
■残渣物が出来ない表面乾燥ができる
■高密度ラジカルの生成により、窒素ガス消費量の４５％削減（従来比）
■添加ガス種の変更により、マトリックス材に見合う官能基かアミン基の選択が可能
■各種材質表面へのダイレクト接着技術
■還元処理
| 価格情報 |
ワークサイズ（100ミリ～3000ミリ）によって装置価格が変わります。 お問い合わせ下さい。 卓上式実験機製造中、立ち合い実験実施中 |
|---|---|
| 納期 |
お問い合わせください
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| 型番・ブランド名 | 「Preciseシリーズ」 |
| 用途／実績例 | ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。 |
関連ダウンロード
大気圧プラズマ装置 「Preciseシリーズ」
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