最終更新日:
2023-08-21 11:44:00.0
超高温熱処理と優れた温度均一性の実現により、ブール・インゴット、ウエハのバッチ処理が可能であり、欠陥や転位を最小限に抑えます。
ワイドバンドギャップ半導体デバイスの歩留まりを向上するためには、応力に起因する欠陥や転位を最小限に抑える必要があります。その手法の一つとして、半導体結晶の超高温熱処理があります。c.CRYSCOO HTA高温アニール炉は、ワイドバンドギャップ半導体のバルク結晶からデバイスまでのバリューチェーンにおいて生産性を大幅に改善させるために開発されました。優れた温度制御(最高温度2200℃)、均一性、低クロスコンタミネーションの実現により、c.CRYSCOO HTAは従来の炉を凌駕する最高のパフォーマンスを発揮します。10個以上のブール・インゴット、あるいは100枚以上の未加工ウェハーの同時処理が可能です。
基本情報
セントロサーム（正式名centrotherm international AG）は、1958年に設立された熱処理炉専門の世界的メーカーです。真空リフロー炉はじめ、拡散炉・LPCVD・高速ランプアニール炉など豊富なラインナップを取り揃えており、太陽電池や半導体分野の熱処理工程に貢献しています。
日本国内では、2006年から伯東株式会社が総代理店として同社製品の販売と保守サービスを担ってきました。SiCパワーデバイスやMEMSセンサーをはじめとした大手デバイスメーカーの量産シーンで多数実績があります。
| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 用途／実績例 | 【用途】 ・ SiCパワー半導体ウエハ、ブール、インゴット等の化合物半導体材料の欠陥や転位低減 【実績例】 ・ ウエハ、デバイスメーカー各社がcentrotherm社の熱処理装置を運用しており、最先端分野の研究または生産ツールとして貢献しています |
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