【応用例】
■プリント基板への細線形成
ライン/スペース=10μm/10μmのパターン
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
■プリント基板への細線形成
ライン/スペース=10μm/10μmのパターン
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上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
電子部品などの微細加工に適したフォトレジストタイプの電着処理剤
『ハニレジストAP』は、ハニー化成の長年に亘り培われてきた、ハニライト
電着技術を基本とし開発された微細加工用ポジ型レジスト電着処理剤です。
プリント基板やCOF・TCPへの Reel to Reelによる高速処理(通電時間10秒で
膜形成が可能)・微細加工が可能です。
スノーホール内の処理能力にも優れ、3次元構造に対する塗膜形成が容易に
行えます。
【特長】
■高速処理
■高解像度
■均一な塗膜厚
■アルカリ現像、アルカリ剥離タイプ
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。
ハニー化成株式会社