最終更新日:
2020-10-30 09:27:07.0
応答速度および繰り返し性に優れたガス流量コントロール用アプリケーション
『GF100シリーズ』は、優れた応答速度および繰り返し性で、高清浄度
および超高清浄度のプロセスガス供給を実現したメタルシールマスフロー
コントローラ/メータです。
高い繰り返し性と安定性能を確保し、業界標準を超える信頼性をご提供。
業界最高レベルのガス清浄度を実現するとともに、プロセスの柔軟性と
効率性を向上し、収率と生産性を最大限に拡大することができます。
【特長】
■長期的なゼロ点安定性：0.5％フルスケール/年以下
■セトリングタイム：700 ms - 1秒以下
■フルスケール流量レート 最大300 slpm
■メタルシール流路：4µ または 10µ インチ Raの表面仕上げオプション
■耐腐食ハステロイ(R) 製T-Riseセンサにより、温度が上昇しても、
測定の再現性を向上 など
※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問合せください。
基本情報
【メリット】
■半導体業界の標準に合わせた連続テストを実行した高性能部品
■パージ時におけるドライダウン時間を短縮
■新しいプロセスガスおよび/またはレンジを60秒以下で設定可能
■ブランドを含むメタルシールMFCの不意の置き換えやアップグレードにも対応
■便利なユーザー表示と独立した診断/サービスポート など
※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問合せください。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【用途】 ■半導体エッチングツール ■薄膜化学蒸着（CVD）システム（CVD、MOCVD、PECVD、ALD） ■物理蒸着（PVD）システム ■エピタキシャルプロセスシステム ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問合せください。 |
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