■除去速度：２．０PPmを約４００秒でほぼ０．０PPｍ（硫化水素）
関連情報
コロシューターは化学吸着剤を使って硫化水素ガスを化学反応させてガスを除よする化学吸着方式採用しております。
活性炭の様に硫化水素ガスを付着させる物理吸着と違い、化学吸着方式は硫化水素ガスを別物に変化させるので、ガスの再放出の心配はありません。
また、光触媒方式と比べて吸着速度が５～１０倍と除去効率が非常に高く、侵入してきた硫化水素ガスを即時に除去する事が可能です。除去速度が速いので、機器に与えるリスクを最小限に抑える事が可能です。
活性炭の様に硫化水素ガスを付着させる物理吸着と違い、化学吸着方式は硫化水素ガスを別物に変化させるので、ガスの再放出の心配はありません。
また、光触媒方式と比べて吸着速度が５～１０倍と除去効率が非常に高く、侵入してきた硫化水素ガスを即時に除去する事が可能です。除去速度が速いので、機器に与えるリスクを最小限に抑える事が可能です。
コロシューターは化学吸着剤を使って硫化水素ガスを化学反応させてガスを除去する化学吸着方式採用しております。
活性炭の様に硫化水素ガスを付着させる物理吸着と違い、化学吸着方式は硫化水素ガスを別物に変化させるので、ガスの再放出の心配はありません。
また、光触媒方式と比べて吸着速度が５～１０倍と除去効率が非常に高く、侵入してきた硫化水素ガスを即時に除去する事が可能です。除去速度が速いので、機器に与えるリスクを最小限に抑える事が可能です。
【宣伝】
INCHEM TOKYO 2023でコロシューターをデモ出展を致します。
https://www.jma.or.jp/INCHEM/
是非とも御来場宜しくお願い致します。
日時：2023/9/20-22
会場：東京ビックサイト
ブース番号：2X07
です。
活性炭の様に硫化水素ガスを付着させる物理吸着と違い、化学吸着方式は硫化水素ガスを別物に変化させるので、ガスの再放出の心配はありません。
また、光触媒方式と比べて吸着速度が５～１０倍と除去効率が非常に高く、侵入してきた硫化水素ガスを即時に除去する事が可能です。除去速度が速いので、機器に与えるリスクを最小限に抑える事が可能です。
【宣伝】
INCHEM TOKYO 2023でコロシューターをデモ出展を致します。
https://www.jma.or.jp/INCHEM/
是非とも御来場宜しくお願い致します。
日時：2023/9/20-22
会場：東京ビックサイト
ブース番号：2X07
です。
試験片を現場に設置し、曝露試験を1か月行って頂きます。
その後試験片を返却頂き、当社に返却頂きます。
外部機関での試験片の腐食錆の分析を行い、ＩＳＡの規格に準拠したレポートを提出させて頂きます。
試験片を返却頂いてから、分析レポート提出まで約3週間となります。
その後試験片を返却頂き、当社に返却頂きます。
外部機関での試験片の腐食錆の分析を行い、ＩＳＡの規格に準拠したレポートを提出させて頂きます。
試験片を返却頂いてから、分析レポート提出まで約3週間となります。
１）硫化水素ガス調査
・腐食ガス試験片を使って、現場でのリスクを判定します。
・硫化水素ガス濃度計を使って現場でのガスの侵入経路を突き止めます
・データーロガー付硫化水素ガスを使って、時系列に合わせた硫化水素ガストレンドを調査します。
２）硫化水素ガス対策
・化学吸着剤をつかった硫化水素除去装置で、お客様のフィールドに合わせたガス対策方法を御提案させて頂きます。
・腐食ガス試験片を使って、現場でのリスクを判定します。
・硫化水素ガス濃度計を使って現場でのガスの侵入経路を突き止めます
・データーロガー付硫化水素ガスを使って、時系列に合わせた硫化水素ガストレンドを調査します。
２）硫化水素ガス対策
・化学吸着剤をつかった硫化水素除去装置で、お客様のフィールドに合わせたガス対策方法を御提案させて頂きます。
硫化水素ガスは最低でも50ppb以下のガス濃度を管理する必要があります。
硫化水素ガスが発生し易い、製紙工場、下水処理場、地熱発電所なのでは、
ガスの管理に日々苦慮されております。
硫化水素ガスが発生し易い、製紙工場、下水処理場、地熱発電所なのでは、
ガスの管理に日々苦慮されております。
１，対象空間に銅と銀の腐食ガス試験片を設置します。
２，３０日間曝露
３，試験片の回収
４，試験片を分析（カソード還元法）
５，ISAレポートの提出（設置から約６週間）
２，３０日間曝露
３，試験片の回収
４，試験片を分析（カソード還元法）
５，ISAレポートの提出（設置から約６週間）
腐食性ガス（硫化水素ガス）の調査を行いましたら、化学吸着剤を使用した最適な対策方法を御提案させて頂きます。
化学吸着剤による腐食性ガス対策製品は、迅速かつ確実に腐食性ガスの除去が可能です。
制御盤内のみを集中的に腐食性ガスを浄化する盤内浄化用製品と電気室や制御室の部屋全体を浄化する室内浄化用製品がございます。
現場に合わせて、御予算に合わせた最適な対策方法を御提案させて頂きます。
【宣伝】
INCHEM TOKYO 2023でコロシューターをデモ出展を致します。
https://www.jma.or.jp/INCHEM/
是非とも御来場宜しくお願い致します。
日時：2023/9/20-22
会場：東京ビックサイト
ブース番号：2X07
です。
化学吸着剤による腐食性ガス対策製品は、迅速かつ確実に腐食性ガスの除去が可能です。
制御盤内のみを集中的に腐食性ガスを浄化する盤内浄化用製品と電気室や制御室の部屋全体を浄化する室内浄化用製品がございます。
現場に合わせて、御予算に合わせた最適な対策方法を御提案させて頂きます。
【宣伝】
INCHEM TOKYO 2023でコロシューターをデモ出展を致します。
https://www.jma.or.jp/INCHEM/
是非とも御来場宜しくお願い致します。
日時：2023/9/20-22
会場：東京ビックサイト
ブース番号：2X07
です。
コロシューターは化学吸着剤を使って硫化水素ガスを化学反応させてガスを除去する化学吸着方式採用しております。
活性炭の様に硫化水素ガスを付着させる物理吸着と違い、化学吸着方式は硫化水素ガスを別物に変化させるので、ガスの再放出の心配はありません。
また、光触媒方式と比べて吸着速度が５～１０倍と除去効率が非常に高く、侵入してきた硫化水素ガスを即時に除去する事が可能です。除去速度が速いので、機器に与えるリスクを最小限に抑える事が可能です。
ガス対策で機器の基盤にコーティングを行うケースもありますが、コーティングはコネクタ部分には塗布する事はできません。硫化水素ガスを除去しない限りは、硫化水素ガスによる腐食故障を防ぐ事はできません。また、コーティング加工はコスト高で非常に納期がかかり、機器が故障してしまった場合、即時に交換機器を調達する事も難しいです。
また、昨今の半導体不足で、硫化水素ガスに弱いインバーターやリレースイッチが長納期化しており、機械が故障してしまった場合、交換部材の調達も難しい状況です。
コロシュータは、工場の安全操業に寄与し機器故障による機会損失削減が可能となります。
活性炭の様に硫化水素ガスを付着させる物理吸着と違い、化学吸着方式は硫化水素ガスを別物に変化させるので、ガスの再放出の心配はありません。
また、光触媒方式と比べて吸着速度が５～１０倍と除去効率が非常に高く、侵入してきた硫化水素ガスを即時に除去する事が可能です。除去速度が速いので、機器に与えるリスクを最小限に抑える事が可能です。
ガス対策で機器の基盤にコーティングを行うケースもありますが、コーティングはコネクタ部分には塗布する事はできません。硫化水素ガスを除去しない限りは、硫化水素ガスによる腐食故障を防ぐ事はできません。また、コーティング加工はコスト高で非常に納期がかかり、機器が故障してしまった場合、即時に交換機器を調達する事も難しいです。
また、昨今の半導体不足で、硫化水素ガスに弱いインバーターやリレースイッチが長納期化しており、機械が故障してしまった場合、交換部材の調達も難しい状況です。
コロシュータは、工場の安全操業に寄与し機器故障による機会損失削減が可能となります。
腐食性ガス（硫化水素ガス）の調査を行いましたら、化学吸着剤を使用した最適な方法を御提案させて頂きます。
化学吸着剤による腐食性ガス対策製品は、迅速かつ確実に腐食性ガスの除去が可能です。
制御盤内のみを集中的に腐食性ガスを浄化する盤内浄化用製品と電気室や制御室の部屋全体を浄化する室内浄化用製品がございます。
現場に合わせて、御予算に合わせた最適な対策方法を御提案させて頂きます。
化学吸着剤による腐食性ガス対策製品は、迅速かつ確実に腐食性ガスの除去が可能です。
制御盤内のみを集中的に腐食性ガスを浄化する盤内浄化用製品と電気室や制御室の部屋全体を浄化する室内浄化用製品がございます。
現場に合わせて、御予算に合わせた最適な対策方法を御提案させて頂きます。
硫化水素ガスとの反応式
H2S＋２KOH＋２O2→K2SO4＋２H2O
亜硫酸ガスとの反応式
SO2＋２KOH→K2SO3＋H2O
H2S＋２KOH＋２O2→K2SO4＋２H2O
亜硫酸ガスとの反応式
SO2＋２KOH→K2SO3＋H2O
お問い合わせ
※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。
株式会社ジェイエムエス
