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カタログ発行日:2021.07.22
物理蒸着法(PVD)による球状Cu粉末。 サブミクロン~1mmまで、粒度カスタマイズに対応。 ■製品スペック(COA : 量産品代表値。)Cu 純度:≧99.0%(2N)
不純物濃度(ICP-MS)
Fe=21ppm
Al=22ppm
Ni=26ppm
C/O濃度測定(赤外線吸収法)
C=0.4479wt%
O=0.6104wt%
粒度(レーザー回析・散乱法)
D10=0.59 µm
D50=0.88µm
D90=1.39µm
比表面積(BET法)
1.40 m2/g
Tap密度
3.96 g/cm3
*量産品の測定結果ですが、保証値ではありません。
*保証スペックについては、契約にて定めます。
関連情報
サブミクロン~1mmまで 球状 銅(Cu)粉末
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■製品スペック(COA : 量産品代表値。)
Cu 純度:≧99.0%(2N)
不純物濃度(ICP-MS)
Fe=21ppm
Al=22ppm
Ni=26ppm
C/O濃度測定(赤外線吸収法)
C=0.4479wt%
O=0.6104wt%
粒度(レーザー回析・散乱法)
D10=0.59 µm
D50=0.88µm
D90=1.39µm
比表面積(BET法)
1.40 m2/g
Tap 密度
3.96 g/cm3
*量産品の測定結果ですが、保証値ではありません。
*保証スペックについては、契約にて定めます。
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