日本NER株式会社

α相/β相 窒化ケイ素(Si3N4)粉末

最終更新日: 2023-03-30 19:32:44.0

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

カタログ発行日:2023.03.30

微細 高純度 α相/β相 窒化ケイ素(Si3N4)粉末。 ミクロンスケールで、粒度カスタマイズに対応いたします。
■製品スペック(COA : 量産品代表値。)

<α相 D50=1μm - 2μm品の場合>

Si3N4 純度:≧99.9%
α相 > 90.0%

不純物濃度(ICP-MS)
Fe=45ppm Al=14ppm Ni=11ppm W= 9ppm Zn=<1ppm Ca=<1ppm

C/O濃度測定(赤外線吸収法)
C=0.06wt%
O=1.16wt%

粒度(レーザー回析・散乱法)
D10=0.40µm
D50=1.42µm
D90=5.07µm

<β相 D50=1μm - 2μm品の場合>

Si3N4 純度:≧99.9%
β相 > 99.0%

不純物濃度(ICP-MS)
Fe=81ppm Al=5ppm Ni=<5ppm W=<10ppm Zn=<5ppm Ca=<5ppm

C/O濃度測定(赤外線吸収法)
C=0.12wt%
O=1.11wt%

粒度(レーザー回析・散乱法)
D10=0.63µm
D50=1.33µm
D90=5.65µm

関連情報

微細 高純度 α相/β相 窒化ケイ素(Si3N4)粉末
微細 高純度 α相/β相 窒化ケイ素(Si3N4)粉末 製品画像

■製品スペック(COA : 量産品代表値。)

<α相 D50=1μm - 2μm品の場合>

Si3N4 純度≧99.9%
α相>90.0%

不純物濃度(ICP-MS)
Fe=45ppm
Al=14ppm
Ni=11ppm
W= 9ppm
Zn=<1ppm
Ca=<1ppm

C/O濃度測定(赤外線吸収法)
C=0.06wt%
O=1.16wt%

粒度(レーザー回析・散乱法)
D10=0.40µm
D50=1.42µm
D90=5.07µm

<β相 D50=1μm - 2μm品の場合>

Si3N4 純度≧99.9%
β相>99.0%

不純物濃度(ICP-MS)
Fe=81ppm
Al= 5ppm
Ni=<5ppm
W=<10ppm
Zn=<5ppm
Ca=<5ppm

C/O濃度測定(赤外線吸収法)
C=0.12wt%
O=1.11wt%

粒度(レーザー回析・散乱法)
D10=0.63µm
D50=1.33µm
D90=5.65µm

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