『シリコン（Si）2N～4N粉末』製品カタログ | カタログ

最終更新日: 2023-11-28 15:51:15.0

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

カタログ発行日：2023.11.28

用途広がるシリコンパウダー（粉末） Si純度（2N～4N）と粒度分布（ナノサイズ～粒状）のカスタマイズに幅広く対応
名称：シリコン粉末（ケイ素：Silicon Powder）
形態：微粉末～粒体（Fine Powder ～ Granule）
製造方法：乾式ジェットミル
カスタマイズ可能範囲：
・材料：シーメンス法バージンポリシリコン（4N）
金属冶金法ポリシリコン（3N/4N）
金属シリコン（2N/3N）
Ｐ／Ｂドープインゴット（4N）
・化学成分：Si純度：2N～4N
個別の金属不純物濃度（上限値指定）
ドーピング元素（B/P/Ge/As等）濃度（上限値指定）
酸素濃度（管理上限濃度協議）
・粒子径：上記標準スペックを基準として、D50指定
（D10,D90指定協議）

名称：シリコンナノ超微粉末（ケイ素：Ultrafine Nano Silicon Powder）
形態：超微粉末
製造方法：物理気相合成(Physical Vapor Deposition : PVD)
カスタマイズ可能範囲：
Si純度・不純物濃度・酸素濃度・結晶構造・粒子サイズ・粒子形状等、未だ開発途上。

関連情報

シリコン（Si）粉末

【カスタマイズ可能範囲】
◎材料：シーメンス法バージンポリシリコン（4N）
　　　　金属冶金法ポリシリコン（3N／4N）
　　　　金属シリコン（2N／3N）
　　　　P／Bドープインゴット（4N）
◎化学成分：Si純度　2N～4N
　　　　　　個別の金属不純物濃度※上限値指定
　　　　　　ドーピング元素（B／P／Ge／As等）濃度※上限値指定
　　　　　　酸素濃度※管理上限濃度協議
◎粒子径：D50指定※D10、D90指定協議

※「超微粉末」のカスタマイズ可能範囲は開発途上のため、ニーズに合わせ研究を進めます。
　詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

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