上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
カタログ発行日:2023.11.28
物理気相合成(PVD)による シリコン(Si) ナノ超微粉末 (50nm, 100nm) 名称:シリコンナノ超微粉末(ケイ素:Ultrafine Nano Silicon Powder)形態:超微粉末
製造方法:物理気相合成(Physical Vapor Deposition : PVD)
カスタマイズ可能範囲:
Si純度・不純物濃度・酸素濃度・結晶構造・粒子サイズ・粒子形状等、未だ開発途上。
御社のニーズに合わせて、研究を進めます。
原産国:中国
最低出荷数量:1kg以上。
最大出荷数量:1,000kg/月程度
納期の目安:30日
関連情報
シリコン(Si)粉末
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【カスタマイズ可能範囲】
◎材料:シーメンス法バージンポリシリコン(4N)
金属冶金法ポリシリコン(3N/4N)
金属シリコン(2N/3N)
P/Bドープインゴット(4N)
◎化学成分:Si純度 2N~4N
個別の金属不純物濃度※上限値指定
ドーピング元素(B/P/Ge/As等)濃度※上限値指定
酸素濃度※管理上限濃度協議
◎粒子径:D50指定※D10、D90指定協議
※「超微粉末」のカスタマイズ可能範囲は開発途上のため、ニーズに合わせ研究を進めます。
詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
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