細霧を発生可能！スプレーパターンが環状の小噴量空円錐ノズル
「均等分布ノズル(少量噴霧／分解可能) K」は、細霧が発生可能なスプレーパターンが環状の小噴量空円錐ノズルです。
スプレーチップ噴口部およびクローザーにセラミックを使用し、旋流室から噴口までをセラミックで形成しているため耐摩耗性が抜群に優れています。
全形番にストレーナー標準装備。公害防止、機械、電気電子、紙・パルプ・印刷、食品等の業界での使用に最適です。
【特徴】
○小噴量空円錐ノズル
○環状のスプレーパターン
○旋流室から噴口までセラミック形成
○耐摩耗性に優れる
○細霧を発生可能
詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【仕様】
○ネジサイズ：1/4M
○噴霧角度：80°
○平均粒子径：80～380μm
○ストレーナー：あり
○標準圧力：0.3MPa
○噴霧流量：0.06～1.80ℓ/min
○異物通過径：0.4～1.7mm
○構造
→スプレーチップ噴口部およびクローザーにセラミックを使用
→旋流室から噴口までをセラミックで形成
→各部品は分解可能
→全形番にストレーナー標準装備
○材質
→金属部分：S303またはB(真ちゅう)
○質量：S303 17.5g、B(真ちゅう) 18.5g
●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
○ネジサイズ：1/4M
○噴霧角度：80°
○平均粒子径：80～380μm
○ストレーナー：あり
○標準圧力：0.3MPa
○噴霧流量：0.06～1.80ℓ/min
○異物通過径：0.4～1.7mm
○構造
→スプレーチップ噴口部およびクローザーにセラミックを使用
→旋流室から噴口までをセラミックで形成
→各部品は分解可能
→全形番にストレーナー標準装備
○材質
→金属部分：S303またはB(真ちゅう)
○質量：S303 17.5g、B(真ちゅう) 18.5g
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| 用途／実績例 |
【用途】 ○加湿：エアハンドリングユニット内 ○冷却：ガス、金属 ○散布：薬液 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。 |
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