細霧を発生可能！スプレーパターンが環状の小噴量三組形空円錐ノズル
「均等分布ノズル(少量噴霧／分解可能) KD」は、細霧が発生可能なスプレーパターンが環状の小噴量三組形空円錐ノズルです。
スプレーチップ全長を最小に抑えたコンパクトな設計。スプレーチップ噴口部およびクローザーにセラミックを使用し、旋流室から噴口までをセラミックで形成しているため耐摩耗性が抜群に優れます。
ストレーナーは、小噴量品に標準装備。取外しも可能です。
【特徴】
○空円錐ノズル 小噴量形
○スプレーパターンが環状の小噴量三組形空円錐ノズル
○細霧を発生可能
○コンパクトな設計
○耐摩耗性が抜群に優れる
詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【仕様】
○ネジサイズ：1/4M
○噴霧角度：70～97°
○平均粒子径：130～420μm
○ストレーナー：あり／なし
○標準圧力：0.3MPa
○噴霧流量：0.30～3.94ℓ/min
○異物通過径：0.7～1.8mm
○構造
→スプレーチップ噴口部およびクローザーにセラミックを使用
→旋流室から噴口までをセラミックで形成
→スプレーチップ、キャップ、アダプターの3部分で構成
→損耗したスプレーチップだけを取替え可能
→ストレーナーは、小噴量品に標準装備。取外しも可能
○材質
→ノズル噴口、ワーラー：セラミック
→その他：S303またはB(真ちゅう)
→オプション材質：S316、その他
○質量
→S303 46g、B(真ちゅう) 49g
→スプレーチップ：S303 3g、B(真ちゅう) 3g
●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
○ネジサイズ：1/4M
○噴霧角度：70～97°
○平均粒子径：130～420μm
○ストレーナー：あり／なし
○標準圧力：0.3MPa
○噴霧流量：0.30～3.94ℓ/min
○異物通過径：0.7～1.8mm
○構造
→スプレーチップ噴口部およびクローザーにセラミックを使用
→旋流室から噴口までをセラミックで形成
→スプレーチップ、キャップ、アダプターの3部分で構成
→損耗したスプレーチップだけを取替え可能
→ストレーナーは、小噴量品に標準装備。取外しも可能
○材質
→ノズル噴口、ワーラー：セラミック
→その他：S303またはB(真ちゅう)
→オプション材質：S316、その他
○質量
→S303 46g、B(真ちゅう) 49g
→スプレーチップ：S303 3g、B(真ちゅう) 3g
●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
| 価格情報 | お問い合わせください。 |
|---|---|
| 納期 |
お問い合わせください
※ お問い合わせください。 |
| 用途／実績例 |
【用途】 ○冷却：ガス ○散布：薬液、鎮塵 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。 |
関連ダウンロード
お問い合わせ
※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。
株式会社いけうち
