最少の噴霧流量！円形スプレーパターンで均等流量分布の充円錐ノズル
「均等分布ノズル(少量噴霧) J」は、スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズルです。
充円錐ノズル中最少の噴霧流量。衝突流入により微粒化を行う、新発想の充円錐ノズル。
全形番にストレーナー標準装備。各部品は分解可能です。
スプレーチップ噴口部およびクローザーにセラミックを使用し、耐摩耗性に優れます。
【特徴】
○均等な流量分布の円形スプレーパターン
○充円錐ノズル中、最少の噴霧流量
○衝突流入により微粒化を行う
○耐摩耗性に優れる
○スプレーチップ噴口部・クローザーにセラミックを使用
詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【仕様】
○ネジサイズ：1/4M
○噴霧角度：70°
○平均粒子径：130～440μm
○ストレーナー：あり
○標準圧力：0.2MPa、0.5MPa
○噴霧流量：0.09～1.40ℓ/min
○異物通過径：0.2～0.9mm
○構造
→スプレーチップ噴口部およびクローザーにセラミックを使用
→各部品は分解可能
→全形番にストレーナー標準装備
○材質
→金属部分：S303またはB(真ちゅう)
→オプション材質：S316
●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
○ネジサイズ：1/4M
○噴霧角度：70°
○平均粒子径：130～440μm
○ストレーナー：あり
○標準圧力：0.2MPa、0.5MPa
○噴霧流量：0.09～1.40ℓ/min
○異物通過径：0.2～0.9mm
○構造
→スプレーチップ噴口部およびクローザーにセラミックを使用
→各部品は分解可能
→全形番にストレーナー標準装備
○材質
→金属部分：S303またはB(真ちゅう)
→オプション材質：S316
●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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| 用途／実績例 |
【用途】 ○散布：オイリング、離型剤、糊液、エッチング液 ○洗浄：メッキ、ガス ○冷却：機器、ガス ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。 |
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