光昭株式会社

次世代型抗ウイルス・抗菌スプレー CU+ブロック

最終更新日: 2022-01-13 10:12:39.0

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

スプレーするだけ、手間いらず! 1分間でウイルスを除去し、3ヶ月以上効果が持続する次世代型の抗ウイルス・抗菌スプレー
CU+ブロックは、新型コロナウイルス対策に有効な次世代型の抗ウイルス・抗菌スプレーです。

アルコールと一価銅化合物ナノ粒子を配合した特許技術Cufitecを採用しており、アルコールで素早くウイルスを除去し、一価銅化合物ナノ粒子が長期間の抗ウイルス効果を持続させます。

■■製品特徴■■
・即効性
アルコールと一価銅化合物ナノ粒子に力で、噴射後1分間でウイルスを現象させます。
・持続性
一価銅化合物ナノ粒子が残り続け、3ヶ月たっても抗ウイルス効果が持続します。
・耐久性
手で触っても一価銅化合物ナノ粒子が簡単にはがれることなく、コーティングが維持されます。
・安心、安全
製品に含まれる素材は各種試験で毒性のない素材であることを確認済みです。
・効果の見える化
手で触れてサラサラした感触があれば効果が持続中、触って確かめることができます。

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