![密閉型マイクロスケール CSTR 製品画像](https://images.ipros.jp/public/product/image/bd7/2000716755/IPROS91416604576171651573.png?w=140&h=140)
【使用例:連続接触水素化(水添)反応】
■反応条件
・温度 室温
・水素圧力 0.15MPa(ゲージ圧)…絶対圧0.25MPa
・Pd/C使用量 BNB:Pd=100:1(モル比)
・滞留時間(反応時間) 1時間
■結果
・TLC分析 メルク社シリカゲル 60F254、UV254nm検出
・収率 >99%(GC-FID 内部標準法による)※ただし、副生成物の痕跡あり
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
■反応条件
・温度 室温
・水素圧力 0.15MPa(ゲージ圧)…絶対圧0.25MPa
・Pd/C使用量 BNB:Pd=100:1(モル比)
・滞留時間(反応時間) 1時間
■結果
・TLC分析 メルク社シリカゲル 60F254、UV254nm検出
・収率 >99%(GC-FID 内部標準法による)※ただし、副生成物の痕跡あり
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。