養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染受託も受付中
『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。
ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、
低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。
病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む
電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。
【特長】
■養生や拭き取り作業が不要で、施設の稼働停止を抑制可能
■メーカーによるBI評価試験でSAL=10^-6以下を達成
■浮遊する病原体を空気と一緒に吸引しHEPAフィルターで捕集
■電子機器などを除染可能
★この度、当社では本製品を使用した除染受託を開始いたしました。
部屋、装置、ダクト内などの除染でお困りの方はご連絡ください。
※製品について、詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
【使用にあたって】
本製品で除染を行うには、別途、密閉された空間（パスルームや大型チャンバー等）並びに
エアレーションシステムが必要になります。
【製品仕様】
メタノール気化量：3.0～7.0mL/min（typ4.5mL/min）＠125℃
供給AIR：3～10L/min（typ6.5L/min）：シリカゲルA600＋B300g
メタノール供給量：5～15mL/m3（typ10mL）＠室温
ガス発生所要時間：容積100m3：180～270分（容積、室分割により複数台）
循環除染ユニット：処理能力180～40CMH
循環除染（HEPA仕様）：処理能力60～180CMH
電源：AC100V 50/60Hz
外形寸法：W420×D480×H1200mm
※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
本製品で除染を行うには、別途、密閉された空間（パスルームや大型チャンバー等）並びに
エアレーションシステムが必要になります。
【製品仕様】
メタノール気化量：3.0～7.0mL/min（typ4.5mL/min）＠125℃
供給AIR：3～10L/min（typ6.5L/min）：シリカゲルA600＋B300g
メタノール供給量：5～15mL/m3（typ10mL）＠室温
ガス発生所要時間：容積100m3：180～270分（容積、室分割により複数台）
循環除染ユニット：処理能力180～40CMH
循環除染（HEPA仕様）：処理能力60～180CMH
電源：AC100V 50/60Hz
外形寸法：W420×D480×H1200mm
※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 用途／実績例 | ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。 |
関連ダウンロード
除染ガス発生装置『steriXcure』
上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
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水戸工業株式会社
