一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

2018-01-18 00:00:00.0
技術情報「ポジ型フォトレジストの構造解析」ほか2件を公開

カタログニュース   掲載開始日: 2018-01-18 00:00:00.0

MSTホームページにて、下記分析事例3件を公開しました。
・ポジ型フォトレジストの構造解析
・粘着シートによる電子部品の汚染評価

詳細はMSTホームページをご覧ください。
http://www.mst.or.jp/

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関連製品情報

【分析事例】粘着シートによる電子部品の汚染評価
【分析事例】粘着シートによる電子部品の汚染評価 製品画像
有機汚染の定性・定量・分布を複数手法の組み合わせで評価

半導体デバイスの製造工程では、ダイシング用テープなど様々な粘着シートが使用されます。粘着シートは異物・汚染の原因となることがあります。そこで、本事例ではTOF-SIMS・SWA-GC/MSを用いて複合 的に評価した結果をご紹介します。TOF-SIMSでは、粘着シート各材料の定性を行うことで、異物・汚染がどの粘着シートに起因するのか、また粘着シートのどの層に起因するのか同定が可能です。またSWA-GC/MSでは、どの粘着シートがもっとも汚染が少ないかを定量的に確認することができます。
【分析事例】ポジ型フォトレジストの構造解析
【分析事例】ポジ型フォトレジストの構造解析 製品画像
熱分解GC/MS法により感光剤の構造解析が可能

ポジ型フォトレジストは、半導体デバイス製造時のフォトリソグラフィー材料として広く用いられています。 レジストに使用される素材は露光光源によって大きく異なりますが、g線、i線用のレジストでは一般にベース樹脂としてクレゾールノボラック樹脂、感光剤としてナフトキノンジアジド化合物が用いられています。本事例では熱分解GC/MS法によってナフトキノンジアジド化合物を分解し、母核の構造を推定した事例を紹介します。

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