最終更新日:
2020-06-12 16:43:25.0
高純度を要求される半導体製造工程でのイオン注入には多数のカーボンが使用されます。その高純度カーボンのご紹介です。
高純度、パーティクル低減、高寿命が要求される過酷な製造工程において優れた性能を発揮する高純度カーボンのご紹介です。
基本情報
高純度、パーティクル低減、高寿命が要求される過酷な製造工程において優れた性能を発揮する高純度カーボンのご紹介です。
価格帯 | お問い合わせください |
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納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | ・イオン注入装置 ・半導体後工程はんだ付け工程 ・MOCVDサセプター ・ |
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ナラサキ産業株式会社 メカトロソリューション部 機能材料課