最終更新日:
2024-02-09 11:28:43.0
半導体や液晶などの電子材料製造プロセスにおいて、フォトレジスト、剥離剤、洗浄剤、エッチング剤などの溶剤として広く利用されています
半導体製造プロセス用洗浄剤、フォトレジスト、反射防止膜などへのご使用ニーズにおいて、脱メタル、金属除去、汚染リスク低減のご要望にお応えする薬液です。
・金属含有量 500 ppt以下の製造実績多数有り
・品目多数、当社製品のほかご指定の化学構造もご相談ください
・受託蒸留も承ります
・品目、金属規格値、純度等ご相談下さい
・国内生産、BCP、リファイン等ご相談下さい
※カタログをダウンロードのうえ、お気軽にお問い合わせください。
基本情報
日本乳化剤株式会社は、エチレンオキサイド（EO）・プロピレンオキサイド（PO）の付加重合をコア技術とし、アルコールのアルキル化及びアニオン化等の有機合成を応用して、500種類以上の製品を提供しております。小規模から大規模ロットまでスケールを問わず、EO・POモル数を調整し、配列 順序を自由に組み合わせることで、お客様にとって好適な機能を持つ製品をご提供致します 。
| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ・金属含有量 500 ppt以下の製造実績多数有り ・品目多数、当社製品のほかご指定の化学構造もご相談ください ・受託蒸留も承ります ・品目、金属規格値、純度等お気軽にご相談下さい |
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日本乳化剤株式会社 界面活性剤、グリコールエーテル、アミン、イオン液体
