【その他の特長】
■パネルヒーターを何枚も組み合わせることにより8Gを超えるような大型ガラス基板でも
細やかな温度制御が可能
■半導体製造装置に使用するホットプレートでは早い昇温スピードと均一な温度分布が可能
■端子部にセラミック気密端子を使用することで真空中での電源取り合いが可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
■パネルヒーターを何枚も組み合わせることにより8Gを超えるような大型ガラス基板でも
細やかな温度制御が可能
■半導体製造装置に使用するホットプレートでは早い昇温スピードと均一な温度分布が可能
■端子部にセラミック気密端子を使用することで真空中での電源取り合いが可能
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