PICOSUN JAPAN株式会社

ALD装置(原子層堆積装置)『P-1000』

最終更新日: 2020/10/09

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

様々な大型3DオブジェクトのバッチALD成膜に!生産性向上に貢献!
『P-1000』は、機械部品、ガラスまたはメタルシート、コイン、ジュエリー、または医療用インプラントなど、さまざまな3Dオブジェクトのバッチコーティングに適した装置です。

主なアプリケーションには、デバイスの性能や寿命を大幅に向上させるための各種パッシベーションやバリア層などがあります。

高品質のALD成膜を実現する革新的でアジャイル性の高い設計となっており、優れた均一性を備え、生産性を最大限に高め、システムのダウンタイムを最小限に抑え、所有にかかる費用を抑えることのできる、確実な生産性を提供いたします。

【特長】
■3Dオブジェクトのバッチコーティングに好適
■高品質のALD成膜を実現する革新的でアジャイル性の高い設計
■優れた均一性を備え、生産性を最大限に高める
■システムのダウンタイムを最小限に抑え、所有にかかる費用を抑える
■信頼性が高く、また成膜が高速でメンテナンスが容易

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

関連情報

ALD装置(原子層堆積装置)『P-1000』
ALD装置(原子層堆積装置)『P-1000』 製品画像
【その他の特長】
■標準的な基板サイズと種類
 ・小型・大型の3Dアイテム(例:機械・装置部品、ガラスまたはメタルシート、コイン、ジュエリー、医療用 インプラント)
■処理温度:50~400℃
■成膜種類例:アルミナ(AI2O3)、イットリア(Y2O3)、SiO2等
■基板の装着
 ・装着補助機器による手動装着(例:フォークリフト・カート)
■プリカーサー
 ・液体、固体、気体、オゾン
 ・レベルセンサー、洗浄および補充
 ・6か所に分かれた注入口から最大10種のソース

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