PICOSUN JAPAN株式会社

2019/09/04
新しいプラズマALD装置をピコサンが発表

製品ニュース   掲載開始日: 2020/08/31

ALD(原子層堆積)薄膜コーティングソリューションのリーディングサプライヤであるピコサン社は、次世代のR&D向けプラズマALDで得られた結果を報告した。プラズマALDはサーマルプロセスではできない材料が成膜できるが、欠点としてイオン衝撃によるサンプル表面の損傷の可能性がある。これに対するピコサンのソリューションは、リモートプラズマ法である。この方法では、プラズマ源がサンプルから十分離れているためダメージを低減できる。
ピコサンの次世代プラズマALDソリューションは、リモート高出力マイクロ波プラズマ(MWP)技術に基づいており、コンパクトで軽量のプラズマ発生器は、既存のピコサンR&D ALDリアクターに統合可能である。このソリューションでは、パーティクル発生及び金属汚染が非常に少なく、従来使用されていた方法に比べてサイクル時間がはるかに短い成膜を実現できる。優れた膜質と均一性が得られており、新しいMWPにより利用可能なALDプロセスの選択肢が広がることが期待される。

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