PICOSUN JAPAN株式会社

2020/10/08
ピコサンのALD装置を次世代パワーエレクトロニクスに適用

企業ニュース   掲載開始日: 2020/10/08

ピコサン社(フィンランド)は、欧米及びアジアのパワーエレクトロニクス顧客へクラスターALDシステムを販売し、市場での地位を強化していると発表した。パワーエレクトロニクスは急成長している重要な市場であり、ピコサンのALDにより、この分野における品質・スループットなどの課題へのソリューションを提供している。GaNやSiCなどの4〜8インチの化合物半導体材料は、純粋なシリコンと比較してさまざまな利点を提供するものの、界面トラップ密度が高く、ゲートリーク電流が発生しやすく、しきい値電圧の安定性が低いといった課題が存在する。界面トラップ密度は、前洗浄方法と高誘電率の大きなバンドギャップ絶縁体を組み合わせることで低減でき、ALDによる高品質なhigh-k誘電体層は、パワーデバイスのゲートリーク電流を低減し、電子移動度としきい値電圧の安定性を向上させることができる。昨年発売されたピコサンのクラスター装置Morpherを使用することで、多層成膜が可能であり、クラスター設計により、プレクリーン、RIEなどの他の処理ユニットも統合して、完全に自動化された高スループットの連続真空操作が可能になる。

関連製品情報

クラスター装置『Morpher』
クラスター装置『Morpher』 製品画像
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Morpher ALDシステムは、業界標準の枚葉ウエハ真空クラスタプラットフォームを組み込み、ウエハバッチを完全自動処理するように設計されています。革新的な特許取得済みのウエハバッチフリップ機構により、他の半導体製造ラインとのシステムの統合が可能で、またSEMI S2/S8認定により、当システムが業界の最も厳しい規格と互換性があることが保証されています。 Morpher ALDシステムは、SECS/GEMプロトコルを介してファクトリオートメーションに統合できます。最新のソフトウェアは、直感的で合理化されたグラフィカルユーザーインターフェースを通じて、システムの簡単、安全かつ確実な操作を提供します。完全に分離されたプリカーサ導管と注入口を備えた特許取得済みのデュアルチャンバ、ホットウォールリアクタ設計により、優れた歩留まり、低パーティクルレベル、優れた電気的および光学的性能を備えた最高品質のALD膜を成膜します。コンパクトで人間工学に基づいた設計により、簡単かつ迅速なメンテナンスでシステムのダウンタイムを最小限に抑え、市場での所有コストを最小限に抑えることができます。

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