
今、先進的な成膜技術として話題のALD (Atomic Layer Deposition:原子層堆積)は、PVD・CVD等の成膜技術と比較し、高アスペクト比表面への付き回りに優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、バリア性等の膜質が高く、比較的低温での成膜が可能といった特長があります。 今回、ALDに興味はあるけれど、どのように検討を始めたらいいか分からないというお客様へ、装置・原料・周辺環境といった視点から、ALD技術の概要や導入に必要な注意点などをご説明いたします。 【参画各社紹介】 PICOSUN JAPAN(株):ALDの技術開発において40年以上の経験を持つ、ALD装置専業メーカー。ALD法発明者Tuomo Suntola博士が在籍。 (株)ジャパンアドバンストケミカルズ:ALD材料メーカー。少量多品種対応、受託成膜試験・プロセス開発や評価・コンサルティングに強み。 (株)巴商会:産業ガスの専門商社として、ALDプロセス導入における周辺環境(除害装置・センサ他安全対策・配管施工等)の整備を提供。 ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。