企業ニュース
掲載開始日:
2022/02/04
ピコサン社（フィンランド・エスポ―）とシンクロン株式会社（横浜市みなとみらい）は、光学薄膜用の原子層堆積（ALD）の開発と商品化への協力を発表した。 ALD技術は、複雑な構造にも均一なコーティングが可能なため、ハイエンドの光学アプリケーションに適している。
両社のR＆Dチームは協力して、既存のALDプロセスを光学分野での使用向けに調整する。標準のALD光学薄膜に加えて、ALDフッ化マグネシウム（MgF2）が研究され、現在初めて商用利用が可能になった。これまでのところ、ALD MgF2プロセスは、大学や研究機関での発表のみが知られている。 MgF2は、可視光での屈折率が低く、FUV光学領域での透過率が高いため、光学用途で広く使われている。単層として、または低屈折率材料と高屈折率材料を組み合わせた光学多層膜の一部として使用できる。また、バリア特性や高い化学的安定性などの機能も備えている。
シンクロンのピコサン製品販売代理店契約は2019年に最初に署名されました。このコラボレーションは、ハイエンド光学向けALDコーティングの開発を目的として、2020年に共同開発契約によって拡張された。
関連リンク
- Picosun and Shincron join forces for ALD optical coating development
Picosun本社プレスリリース原文
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