PICOSUN JAPAN株式会社

ALD装置(原子層堆積装置) P-300BV

最終更新日: 2020/09/07
ALD量産向けの標準品!研究開発から生産への移行にはこの型番をご検討ください。

当社PICOSUNが特許取得済みのホットウォール設計と、プリカーサーソースラインの数に対応して各々分離された複数のインレットを組み合わせることにより、優れた生産性、低パーティクル濃度、高い電気的・光学的性能を実現した高品質のALD成膜が可能となっております。
簡単で迅速なメンテナンスのできるアジャイル設計によりシステムのダウンタイム、ひいては保有コストを最小限に抑えることができます。
PICOSUNが独占所有権を持つPicoflow ディフュージョンエンハンサ技術により、量産工程レベルで超高アスペクト比の基板上にコンフォーマルコーティングをすることが可能です。
P-300BVのALDシステムは量産向けALD技術の最先端です。このシステムはウエハバッチを半自動処理するよう設計されています。ツールは高速バッチ生産用に最適化されており、SECS/GEM(オプション)を介してファクトリーオートメーションに組み込むことができます。また真空ローディングシステムにオプションでヒーターをつけることで、反応性の高い基板の洗浄や、金属窒化物等の成膜が可能となります。

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基本情報

■標準的な基板サイズと種類
・200mmウエハで25pcs/バッチ
・150mmウエハで50pcs/バッチ
・100mmウエハで75pcs/バッチ
(いずれも標準ピッチ)
・ウエハ以外の基板(冶具は別途作成必要)
・高アスペクト比サンプル(最大1:2500)
■処理温度
・50~450℃
■標準工程
・最小1桁秒(<10秒)までのサイクルタイムでバッチ処理が可能
・Al2O3、SiO2、Ta2O5、HfO2、ZnO、TiO2、ZrO2、AlN、TiN及びメタル
・<1% 1σ バッチ内NU(Al2O3、WIW、WTW、B2B、49点、5mm EE)
■基板ローディング
・垂直ローダーによる半自動ローディング(1台または2台のローダー)
・オプション:ロードロック用ヒーター
■プリカーサー
・液体、固体、気体、オゾン
・レベルセンサー、洗浄および補充サービス
・4か所の独立したインレットから最大8種のソース

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
用途/実績例 ・LED、ディスクリートデバイス、プリントヘッド・センサ・マイク等のMEMSデバイス
・インプラント、人工関節、ドラッグデリバリーシステムなどバイオメディカル向け

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