PICOSUN JAPAN株式会社

ALD装置(原子層堆積装置) P-300F

最終更新日: 2018/05/29
全自動量産の標準品

当社PICOSUNが特許取得済みのホットウォール設計と、プリカーサーソースラインの数に対応して各々分離された複数のインレットを組み合わせることにより、優れた生産性、低パーティクル濃度、高い電気的・光学的性能を実現した高品質のALD成膜が可能となっております。
簡単で迅速なメンテナンスのできるアジャイル設計によりシステムのダウンタイム、ひいては保有コストを最小限に抑えることができます。
PICOSUNが独占所有権を持つPicoflow ディフュージョンエンハンサ技術により、量産工程レベルで超高アスペクト比の基板上にコンフォーマルコーティングをすることが可能です。
P-300FのALDシステムは量産向けALD技術の最先端です。このシステムは業界標準の真空クラスタープラットフォームと組み合わせることにより、ウエハバッチを完全自動処理するよう設計されています。ツールは高速バッチ生産用に最適化されており、SECS/GEM(オプション)を介してファクトリーオートメーションに組み込むことができます。

基本情報

■標準的な基板サイズと種類
・200mmウエハで50pcs/バッチ
・150mmウエハで50pcs/バッチ
・100mmウエハで50pcs/バッチ
・高アスペクト比サンプル(最大1:2500)
・基板材料:Si、ガラス、クオーツ、SiC、GaN、GaAs、LiNbO3、LiTaO3、InP
■処理温度及び容量
・50~300℃
・最大1000ウエハ/24時間@15nm Al2O3膜厚
■標準工程
・最小1桁秒(<10秒)までのサイクルタイムでバッチ処理が可能
・Al2O3、SiO2、Ta2O5、HfO2、ZnO、TiO2、ZrO2及びメタル
・<1% 1σ バッチ内NU(Al2O3、WIW、WTW、B2B、49点、5mm EE)
■基板ローディング
・垂直フリップ機能組込の真空クラスターツールによる全自動ローディング
・Picoplatform200真空クラスターシステムによるカセット間移載
・オプション:SMIFステーション
■プリカーサー
・液体、固体、気体、オゾン
・レベルセンサー、洗浄および補充サービス
・6か所の独立したインレットから最大12種のソース

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
用途/実績例 ・マイクロプロセッサ、メモリ、ハードドライブなどIC部品
・パワーエレクトロニクス
・プリントヘッド、センサー、マイク等MEMS機器
・ドラッグデリバリーシステム
・インプラント・人工関節 他

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