PICOSUN JAPAN株式会社

ALD装置(原子層堆積装置)『P-300S』

最終更新日: 2018/06/07
高品質のALD膜を作り出す!IC部品生産のための特別設計された成膜システム

『P-300S』は、 マイクロプロセッサ、メモリ、ハードドライブなどの
IC部品生産のための特別設計となっており、またプリントヘッド、センサー、
マイクなどのMEMSデバイスの製造にも適した装置です。

当社が特許取得済みの高温壁設計と完全に分離した投入口を組み合わせる
ことにより、優れた生産性、粒子の低濃度、電気性能や光学性能の優位性を
実現した、高品質のALD膜を作り出すことができます。

SECS/GEMのオプションを介してファクトリーオートメーションに組み込む
ことができ、また半導体産業の必須条件でもある厳密な清浄度を実現します。

【特長】
■IC部品生産やMEMSデバイスの製造に好適
■特許取得済みの高温壁設計と完全に分離した投入口を組み合わせることにより、
 高品質のALD膜を作り出すことが可能
■敏捷性の高い設計と簡単で迅速なメンテナンスにより、
 システムのダウンタイムを最小限に抑える
■非常に共形なコーティングを超高アスペクト比の基板上に作ることができる

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

基本情報

【その他の特長】
■標準的な基板サイズと種類
 ・最大300mm単一ウェハ
 ・高アスペクト比サンプル(最大 1:2500)
■処理温度:50~500℃
■標準処理
 ・最小1桁秒までのサイクルタイムで単一ウェハプロセスが可能
 ・AI2O3、SiO2、Ta2O5、HFO2、ZnO、TiO2、ZrO2、AIN、TiN およびメタル、
 ・<1% 1σバッチ内不均一性 (Al2O3、WIW、WTW、B2B、49点、5mm EE)
■基板の装着
 ・磁気マニピュレーター・アームによるロードロック
 ・Picoplatform 200 または Picoplatform 300 真空クラスターシステムによる自動装着
 ・クラスターシステムによるカセットからカセットおよびFOUP装着
 ・N2キャビネット装着
■プリカーサー
 ・液体、固体、気体、オゾン、プラズマ
 ・レベルセンサー、洗浄および補充
 ・6か所に分かれた注入口から最大12種のソース

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
用途/実績例 【用途】
■マイクロプロセッサ、メモリ、ハードドライブなどのIC部品生産
■プリントヘッド、センサー、マイクなどのMEMSデバイスの製造

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お問い合わせ

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