PICOSUN JAPAN株式会社 ロゴ

PICOSUN JAPAN株式会社

      PICOSUN JAPAN株式会社 企業イメージ

      PICOSUN JAPAN株式会社 企業イメージ

      成膜の最先端、ALD(原子層堆積)法。 その最先端のソリューションをPICOSUN JAPANが提供します。

      フィンランドPicosun Oy社の日本法人です。
      同社ALD成膜装置の日本国内向け販売、アフターサービス拡充の為に2016年4月より営業を開始いたしました。

      フィンランド Picosun oy 社は、2022年6月16日をもちまして米国 Applied Materials 社に株式を譲渡いたしました。
      日本法人である弊社は、Applied Materials グループの一企業として当面の間 現在の形態のまま事業を継続し、引き続き皆さまのご要望に応えてまいります。

      フィンランドPicosun oy社
      ・ Dr.Tuomo Suntola(ALD法の発明者)がボードメンバー、技術顧問
      ・ 設立:1997年

      1974年から世界で初めてALDの技術開発に携わったメンバーがコアとなって設立された会社です。ALDの技術開発においては世界で最も古く、40年以上の経験を持つALD装置の専業メーカーです。
      PICOSUN社装置の設計開発は15世代に渡っており、試行錯誤を経て現在では最も洗練されたALD装置を提供しております。

      事業内容

      ■ALD成膜装置の製造・販売及びアフターサービス
      ALD(Atomic Layer Diposition、原子層堆積)とは、真空を利用した成膜技術の一つです。ALDは既存のPVD/CVD成膜技術より、下記の点において優位性がある為、急速に市場に浸透してきています。

      ・優れた段差被覆性(付きまわり性)
      ・膜厚が1原子層レベル(約1Å=0.1nm)で制御でき、膜厚分布が良い
      ・バリア性が高く膜質が良い
      ・比較的低温で処理可能

      ALDの応用分野は、半導体・電子部品・燃料電池・リチウム電池・有機EL・太陽電池・ディスプレイ・LED・メディカル等です。
      ALDが爆発的に普及するきっかけとなったのは、半導体メモリのゲート酸化膜形成ですが、その特性から、微細粉末/ナノパーティクルコーティング、MEMS等超小型部品の保護膜・絶縁膜としても使われています。
      ワーク表面と共有結合するため密着性も良好で、他の皮膜との間の接着層としても機能します。
      ドライプロセスのため、有機溶剤への作業者の暴露低減目的で既存のウェットプロセス代替としても検討されており、ナノレベル表面処理として幅広い分野で注目されています。

      詳細情報

      製品・サービス(5件)一覧

      カタログ(3件)一覧

      PICOSUN JAPANへのお問い合わせ

      お問い合わせ内容をご記入ください。

      至急度必須
      添付資料
      お問い合わせ内容 必須

      あと文字入力できます。

      【ご利用上の注意】
      お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。

      はじめてイプロスをご利用の方 はじめてイプロスをご利用の方 すでに会員の方はこちら

      イプロス会員(無料)になると、情報掲載の企業に直接お問い合わせすることができます。

      ※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。

      PICOSUN JAPAN株式会社