PICOSUN JAPAN株式会社

ALD(アトミックレイヤーデポジション) アプリケーション例

最終更新日: 2020/08/05
ALD(アトミックレイヤーデポジション) アプリケーション例を写真付きでご紹介!

当社では、フィンランド・Picosun社のALD成膜装置を取り扱っております。

ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の
成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、
バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。

当資料では、アプリケーション例を写真でご紹介しています。

【アプリケーション例】
■トレンチの成膜
・Al2O3/Ta205ナノラミネート
・SiO2
■光学薄膜
・Al2O3/Ta205 (7nm/2nm) ナノラミネート
■MEMSデバイス
・アクチュエーター、RFフィルター、MEMSスイッチ

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

基本情報

【その他のアプリケーション例】
■粉体の成膜/バッテリー
■腐食防止
■LED

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用途/実績例 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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