※約100名のご参加をいただき、大好評にて終了いたしました。
次回開催ご希望の方は下記お問い合わせフォームからご連絡ください。※
ALD (Atomic Layer Deposition:原子層堆積)は、PVD・CVD等の成膜技術と比較し、高アスペクト比表面への付き回りに優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、バリア性が高いなどの特長があります。
今回、ALDを量産向けにご検討のお客様へ、装置・原料・受託加工各社がそれぞれの切り口から、ALD技術の概要や量産工程に必要な注意点などをご説明いたします。
【参画各社紹介】
〇PICOSUN JAPAN株式会社:ALDの技術開発において40年以上の経験を持つALD装置メーカー(本社フィンランド)。国内外で多数のR&D・量産装置導入実績あり。
〇株式会社シリコンセンシングシステムズジャパン:住友精密工業とCollins Aerospace社との合弁会社。MEMSファンドリとしてALD他種々のSi加工を受託。
〇株式会社トリケミカル研究所:東証一部上場の化学メーカー。ALDプリカーサ等半導体プロセス向け各種化学品の開発・製造・販売を行っている。
基本情報
■Webセミナー概要
日時:2020年11月10日14:00~17:00(終了、次回日程は未定です)
実施環境:Microsoft Teams(アカウントをお持ちでなくてもご参加いただけます)
費用:無料
■セミナー内容
1)ALD原理:成膜特性・他の成膜との比較、成膜原理と速度、膜質チューニング
2)成膜装置:実績アプリケーション、装置基本構成、機種ラインナップとその他サービス
3)原料プリカーサ:プリカーサの条件、物性・測定データ・安全性、分子設計
3)ファンドリ:MEMS実績とALDによる性能向上、ALD受託成膜概要、関連プロセス紹介
※お申込者多数の場合はお申込順とし、別日程で第二回開催等の代替提案とする場合がございますので、予めご了承下さい。
下記セミナーも開催しておりますので、是非ご検討ください。
■Webセミナー「エレクトロニクス向け薄膜成膜技術」(他社様との共同セミナー・2021年1月予定)
■Webセミナー「ALDの原理・アプリケーション・量産まで」(ピコサン単独セミナー・毎週月・金開催)
価格情報 | 無料セミナーです。 |
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納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | 【キャンペーン終了しました】 ALD成膜サンプル無償進呈が当たるキャンペーンは終了いたしました。多数のご応募ありがとうございました。 引き続きご希望の方は、直接PICOSUN JAPANまでご相談ください。 お申し込みの際には、下記テンプレートをコピーし情報記載の上、下記「お問い合わせ内容」欄に貼りつけてご送信ください。 <お申し込み情報> 〇社名(必須): 〇お名前(必須・複数でご参加の場合、代表者名): 〇メールアドレス(必須): 〇ご興味のある内容(任意): |