最終更新日:
2020/11/10
ALDの量産に必要な全てがこれで分かる！装置・原料・受託加工の各分野におけるリーディングカンパニー各社がとっておきの情報を披露！
※約100名のご参加をいただき、大好評にて終了いたしました。
次回開催ご希望の方は下記お問い合わせフォームからご連絡ください。※
ALD （Atomic Layer Deposition：原子層堆積）は、PVD・CVD等の成膜技術と比較し、高アスペクト比表面への付き回りに優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、バリア性が高いなどの特長があります。
今回、ALDを量産向けにご検討のお客様へ、装置・原料・受託加工各社がそれぞれの切り口から、ALD技術の概要や量産工程に必要な注意点などをご説明いたします。
【参画各社紹介】
〇PICOSUN JAPAN株式会社：ALDの技術開発において40年以上の経験を持つALD装置メーカー（本社フィンランド）。国内外で多数のR&D・量産装置導入実績あり。
〇株式会社シリコンセンシングシステムズジャパン：住友精密工業とCollins Aerospace社との合弁会社。MEMSファンドリとしてALD他種々のSi加工を受託。
〇株式会社トリケミカル研究所：東証一部上場の化学メーカー。ALDプリカーサ等半導体プロセス向け各種化学品の開発・製造・販売を行っている。
基本情報
■Webセミナー概要
日時：2020年11月10日14：00～17：00（終了、次回日程は未定です）
実施環境：Microsoft Teams（アカウントをお持ちでなくてもご参加いただけます）
費用：無料
■セミナー内容
1）ALD原理：成膜特性・他の成膜との比較、成膜原理と速度、膜質チューニング
2）成膜装置：実績アプリケーション、装置基本構成、機種ラインナップとその他サービス
3）原料プリカーサ：プリカーサの条件、物性・測定データ・安全性、分子設計
3）ファンドリ：MEMS実績とALDによる性能向上、ALD受託成膜概要、関連プロセス紹介
※お申込者多数の場合はお申込順とし、別日程で第二回開催等の代替提案とする場合がございますので、予めご了承下さい。
下記セミナーも開催しておりますので、是非ご検討ください。
■Webセミナー「エレクトロニクス向け薄膜成膜技術」（他社様との共同セミナー・2021年1月予定）
■Webセミナー「ALDの原理・アプリケーション・量産まで」（ピコサン単独セミナー・毎週月・金開催）
| 価格情報 | 無料セミナーです。 |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【キャンペーン終了しました】 ALD成膜サンプル無償進呈が当たるキャンペーンは終了いたしました。多数のご応募ありがとうございました。 引き続きご希望の方は、直接PICOSUN JAPANまでご相談ください。 お申し込みの際には、下記テンプレートをコピーし情報記載の上、下記「お問い合わせ内容」欄に貼りつけてご送信ください。 ＜お申し込み情報＞ 〇社名（必須）： 〇お名前（必須・複数でご参加の場合、代表者名）： 〇メールアドレス（必須）： 〇ご興味のある内容（任意）： |
