最終更新日:
2022/12/09
ピコサンの優れたプロセス設計により、バリア性の高いコーティングを成膜
ALDは他の成膜方法と比較して高いバリア性で知られています。
しかし一方、欠点・短所・デメリットとして、成膜速度の制約があります。
ピコサンでは、独自のノウハウによりバリア性をさらに高め、他の成膜方法より極端に薄い膜厚であっても十分な性能を確保することで、生産性の問題を解決しました。
【特長】
付回り良好なALDコーティングによるミニ・マイクロLEDパシベーション及びバリア膜！デバイス寿命及び性能を大幅に改善！
• PicosunのALD（原子層堆積）技術は、ミニ・マイクロLEDの輝度、信頼性及び寿命を改善する画期的な方法をご提案可能
• ALD膜の卓越した付き回り性により、ミニ・マイクロLEDに特有の高アスペクト比、マイクロパターン幾何学形状などの困難な３Dナノ形状にも優れたパシベーション、バリア膜や光学膜の成膜が可能になります。
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基本情報
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| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ミニ・マイクロLED・VCSEL・OLED 化合物半導体 インプラントデバイス MEMSパシベーション TSV/TGVめっき下地 装置部品 薬剤への徐放性付与など |
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