最終更新日:
2022/12/09
耐腐食性・バリア性の高いALD膜により、人体内環境でも長寿命の封止膜を実現！
ALDは他の成膜方法と比較して高いバリア性で知られています。
しかし一方、欠点・短所・デメリットとして、成膜速度の制約があります。
ピコサンでは、独自のノウハウによりバリア性をさらに高め、他の成膜方法より極端に薄い膜厚であっても十分な性能を確保することで、生産性の問題を解決しました。
【特長】
• PicosunのALD（原子層堆積）技術は医療マイクロインプラント電子デバイスの保護に理想的な方法を提供します。
• Picosunの超薄膜生体適合ALDコーティングはインプラント表面に気密封止を形成します。このため繊細な電子部品を体液の腐食から守り、またインプラントからの金属イオン流出を防ぎます。
詳細は、各アプリケーションノートをご参照ください。
基本情報
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| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ミニ・マイクロLED・VCSEL・OLED 化合物半導体 インプラントデバイス MEMSパシベーション TSV/TGVめっき下地 装置部品 薬剤への徐放性付与など |
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PICOSUN JAPAN株式会社
