最終更新日:
2022/12/09
ピコサンの優れた装置及びプロセス設計により、膜質の良い半導体向けのALD成膜を実現
PicosunのALD機器およびソリューションは、現在、ヨーロッパ、米国、およびアジアのいくつかの著名なパワーデバイスメーカーで生産に使用されています。
【特長】
• PicosunのALD（原子層堆積）技術は、パワーエレクトロニクスデバイスの性能を向上させる優れた方法をご提案いたします。
• ALDは最高の付き回り性と均一性、デジタルに再現可能な膜厚コントロール、またはっきりした界面を持つ極薄膜の欠陥フリーのコーティングを実現します。.
• Picosunは、化合物半導体ベースの電源コンポーネントなど、100〜200 mm（4〜8インチ）のウェーハ生産ライン向けに特別に設計されたターンキー製造ALDソリューションの選択肢を提供します。
詳細は、アプリケーションノートをご参照ください。
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PICOSUN JAPAN株式会社
