今、先進的な成膜技術として話題のALD (Atomic Layer Deposition:原子層堆積)は、PVD・CVD等の成膜技術と比較し、高アスペクト比表面への付き回りに優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、バリア性等の膜質が高く、比較的低温での成膜が可能といった特長があります。
今回、ALDに興味はあるけれど、どのように検討を始めたらいいか分からないというお客様へ、装置・原料・周辺環境といった視点から、ALD技術の概要や導入に必要な注意点などをご説明いたします。
【参画各社紹介】
PICOSUN JAPAN(株):ALDの技術開発において40年以上の経験を持つ、ALD装置専業メーカー。ALD法発明者Tuomo Suntola博士が在籍。
(株)ジャパンアドバンストケミカルズ:ALD材料メーカー。少量多品種対応、受託成膜試験・プロセス開発や評価・コンサルティングに強み。
(株)巴商会:産業ガスの専門商社として、ALDプロセス導入における周辺環境(除害装置・センサ他安全対策・配管施工等)の整備を提供。
※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報
■Webセミナー概要
日時:2021年6月25日(金)14:00~16:00
実施環境:Microsoft Teams(アカウントをお持ちでなくてもご利用いただけます)
費用:無料
所要時間:2時間(質疑応答含む)
■セミナー内容
<PICOSUN JAPAN>
ALDの原理と特徴・長所/短所
ALDが適した用途・アプリケーション例
ALD装置の概要(構成・ラインナップ)、選び方
量産検討での試算(スループット・ランニングコスト)
<ジャパン・アドバンスト・ケミカルズ>
ALD材料(プリカーサ)の紹介
材料・プロセスの開発体制
受託成膜テストと性能評価
容器設計
<巴商会>
ALDプロセスに必要な付帯設備
除害装置の概要
安全・環境対策
※上記は予告なく変更となる場合がございます。
※お申込みされた方の個人情報はウェビナーのご連絡の他、参画三社の今後の営業活動で利用させていただくことがありますので、予めご了承ください。
価格情報 | 無料Webセミナーです。 |
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納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | お申し込みの際には、下記テンプレートをコピーし情報記載の上、下記「お問い合わせ内容」欄に貼りつけてご送信ください。 <お申し込み情報/IPROSアカウント名と同一の場合省略可> 〇社名(必須): 〇お名前(必須・複数でご参加の場合、代表者名): 〇メールアドレス(必須): 〇ご興味のある内容(任意): ※ご質問などございましたらお気軽にお問い合わせ下さい。 |
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