プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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KOBUS FASTによるLED向けコンフォーマル透明導電膜形成
最終更新日: 2024-09-04 15:15:21.0
技術資料・事例集
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フランス設計・製造装置 ICP-CVD成膜装置
最終更新日: 2024-09-04 15:03:40.0
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フランス設計・製造装置 ICP エッチング装置
最終更新日: 2024-09-04 14:58:01.0
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フランス国立科学研究センター様からの推薦状
最終更新日: 2024-04-02 16:02:22.0
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ノルウェー工業科学研究所様からの推薦状
最終更新日: 2024-04-02 16:02:22.0
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オランダ応用科学研究機構様からの推薦状
最終更新日: 2024-04-02 16:02:22.0
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卓上タイプエッチング・成膜装置『Plasma POD シリーズ』
最終更新日: 2023-07-13 11:18:02.0
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【英語版】プラズマ除去装置『HDRF』
最終更新日: 2022-11-14 11:01:02.0
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【英語版】クライオ・プラズマ・エッチング Takachi ICP Cryo
最終更新日: 2022-11-14 11:01:02.0
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【英語版】不良解析エッチング装置『200FA/200R/200I』
最終更新日: 2022-11-14 11:01:02.0
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Plasma-Therm
最終更新日: 2022-07-21 15:11:09.0
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プラズマダイシング装置『MDS-100/MDS-300』
最終更新日: 2022-07-21 15:11:09.0
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【英語版】成膜装置『Corial 200 Series』
最終更新日: 2022-07-21 15:11:09.0
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【英語版】イオンビームエッチング・成膜装置『QuaZar(TM)』
最終更新日: 2022-07-21 15:11:09.0
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【英語版】プラズマ成膜装置『KOBUS F.A.S.T.(R)』
最終更新日: 2022-07-21 15:11:09.0
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