最終更新日:
2022-11-24 10:47:37.0
試料の上面、側面などや、複雑な試料にも奥深く均一にコーティング可能！
試料表面の導電被膜形成処理として、金属オスミウム（Os）の極薄膜
コーティングを行います。
熱ダメージもなく、nm単位の膜厚を高い再現性で成膜可能。
また、試料表面に膜由来の形状が現れず、表面形状観察やEBSD測定への
前処理に用いることができます。
繊維構造を有するサンプルの表面観察では、オスミウムコートでは、複雑な
構造でもチャージアップなく観察できました。
【特長】
■チャージアップのない極薄膜の形成
■再現性の高い膜厚制御
■粒状性のない膜
■熱ダメージのない成膜
※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報
【設備仕様】
■メイワフォーシス製 Neoc-Pro/P
■チャンバー寸法：Φ150×70ｍｍ
■真空ポンプ容量：50L/min
■本体外形寸法：340（W）×280（D）×400（H）ｍｍ
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| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【用途】 ■SEM,FE-SEM観察の前処理 （複雑な形状の試料、熱ダメージに弱い試料など） ■EBSD測定の前処理 ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
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